Одной из ключевых характеристик в высокотехнологичных отраслях при производстве продукции являются высокие требования к чистоте воздуха.
К таким производствам относятся:
микроэлектроника и приборостроение;
оптика и лазеры;
космические технологии.
Современный научно-технический прогресс тесно связан с развитием микроэлектроники. Успехи электроники являются результатом создания различных по своим свойствам полупроводниковых приборов. Топографические размеры микросхем, которые производит данная промышленная сфера, постоянно уменьшаются и исключать их повреждения в процессе изготовления становится все сложнее. Это значит, что каждый микроб или пылинка, ион химических соединений, используемых в производстве, любая частичка испарений с поверхностей приборов, участвующих в технологическом процессе, любой элемент, не видимый невооруженным глазом, могут создать в микросхеме критический дефект, т.е. брак. Именно поэтому качество производственного процесса в микроэлектронике напрямую зависит от чистоты воздушной среды.
Особенно высокие требования к чистым помещениям в электронике стали предъявляться в связи с развитием субмикронных и нано-технологий.
Источниками загрязнении могут выступать внешняя среда, персонал и его одежда, стены, полы, продукты и отходы производства, инструмент и документация.
Для создания необходимых параметров воздушной среды производственных помещений в микроэлектронике применяются чистые помещения и чистые зоны.
Применение чистых помещений и чистых зон – гарантия производства качественной продукции и низкого уровня брака.
